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公司動(dòng)態(tài)

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鎢鉬材料在離子植入設備中的應用

在現代集成電路制造中，離子植入是一項非常重要的技術(shù)，其基本原理是：用能量為100keV量級的離子束入射到材料中去，離子束與材料中的原子或分子將發(fā)生一系列物理的和

發(fā)布日期：2024-07-26　瀏覽量：4676

濺射靶材的應用領(lǐng)域

濺射靶材用于磁控濺射鍍膜，濺射鍍膜是物理氣相沉積(PVD)主要方法之一,它用于在表面沉積具有某種特殊功能的薄膜。濺射靶材的主要應用于平板顯示鍍膜、半導體鍍膜，玻

發(fā)布日期：2024-07-08　瀏覽量：3057

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